お気に入り図書館を設定すると、貸出状況が表示されます エリアを選ぶ 現在地から探す
次世代ULSIプロセス技術
角南 英夫/熊井 貞勇/高田 清司/堀川 貢弘/前川 繁登/青砥なほみ/渡辺 悟/鳥海 明/中西 俊郎/山部紀久夫/岡田 健治/堀内 忠彦/福田 永/百瀬 寿代/佐竹 秀喜/高木 信一/米田 健司/西岡 泰城/廣瀬 全孝/鳥海 明/角南 英夫/福間 雅夫/堀池 靖浩/笹子 勝/伊藤 隆司/平山 誠
シリコン熱酸化膜とその界面―基礎物性から超LSIへの応用まで
西岡 泰城/大木 義路/西川 宏之/服部 健雄/岩崎 裕/森田 悦郎/吉見 年弘/桜井 真理/島貫 康/下田 高広/今井 馨太郎/蒲原 史朗/鳥海 明/塩野 登/塩澤 順一/山部 紀久夫/安田 直樹/高木 信一/谷口 研二