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画像工学概論〈2〉 (画像工学シリーズ)
宏, 小門/巌, 大石/亜夫, 山岡/武司, 甘利/亮, 広橋/画像工学シリーズ編集委員会
高分子工業化学 (応用化学シリーズ)
亜夫, 山岡/美樹, 松方/雅彦, 安中/茂, 高原/明彦, 菊池/淳史, 鈴木/充, 上田/昌之, 鴇田/光夫, 岡野
感光性樹脂 (高分子新素材One point (8))
亜夫, 山岡/浩, 森田/高分子学会
半導体集積回路用レジスト材料ハンドブック
中瀬 真/山岡 亜夫/上野 巧/塘 洋一/後河 内透/内藤 卓哉/村井 二三夫/花畑 誠/中村 二朗/松尾 隆弘/伊東 敏雄/老泉 博昭/田中 稔彦/橋本 訓/木原 尚子/松澤 敏晴/大藤 武/田中 初幸/上野 巧/田中 啓順
ナノテクノロジーとレジスト材料
山岡亜夫/著 山岡亞夫/監修